CVD管式爐的應(yīng)用領(lǐng)域以及特點(diǎn)
更新時間：2020-01-03 點(diǎn)擊次數(shù)：8699
CVD管式爐應(yīng)用領(lǐng)域：
廣泛適用于高、中、低溫CVD工藝，例如：碳納米管的研制、晶體硅基板鍍膜、納米氧化鋅結(jié)構(gòu)的可控生長等等;也可適用于金屬材料的擴(kuò)展焊接以及真空或保護(hù)氣氛下熱處理.
產(chǎn)品特點(diǎn)：
專門設(shè)計用于高溫材料沉積之用。 硅鉬棒加熱、剛玉爐管爐膛, 可預(yù)抽真空,便于通入?yún)⒓臃磻?yīng)的氣體， CVD管式爐進(jìn)口單回路智能溫度控制儀控制、溫區(qū)設(shè)計隔板結(jié)構(gòu)。具有溫度均勻、控制穩(wěn)定、溫區(qū)間溫度擾動孝升溫速度快、節(jié)能、使用溫度高、壽命長等特點(diǎn)，是理想的科研設(shè)備。
1、外觀采用耐高溫、耐腐蝕油漆處理。
2、控制臺采用智能PID數(shù)顯控制器、穩(wěn)定性好、精度高，配有電流表、結(jié)構(gòu)新穎。
3、爐門采用加厚、加固處理，防止變形
4、爐襯采用高純氧化鋁和保溫棉，保溫效果好
5、爐膛溫度時時檢測功能(不加熱情況下同樣顯示爐膛實(shí)際溫度，便于隨時觀察爐膛溫度情況)。具有過載保護(hù)和短路保護(hù)
6、爐殼選用鋼板折邊焊接制成，工作室為耐火材料制成的爐膛，加熱元件置于其中，爐與殼間用保溫材料砌筑。
